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창성 티타늄은 텅스텐 (W), 몰리브덴 (Mo), 니오븀 (Nb) 및 탄탈륨 (Ta) 으로 만든 다양한 표적을 제조합니다. 이들은 박막 코팅 용도의 물리 기상 증착 (PVD) 및 화학 기상 증착 (CVD) 공정에 사용된다.몰리브덴 스퍼터링 타겟과니오븀 스퍼터링 타겟인기있는 제품입니다.
Mo, Nb 및 Ta는 높은 화학적 불활성을 나타내므로, 이들이 박막 증착에 사용되는 공정 가스 또는 재료와 반응하지 않도록 보장한다. 이 불능은 목표 무결성 및 필름 순도를 유지하는 데 도움이됩니다.
W, Mo, Nb 및 Ta 타겟은 상이한 증착 시스템 및 요건을 수용하기 위해 평면 또는 회전 타겟과 같은 다양한 형태로 제조될 수 있다.
W, Mo, Nb 및 Ta는 모두 매우 높은 융점을 가지므로 물리적 기상 증착 (PVD) 과 같은 고온을 포함하는 공정에 적합합니다. 화학 기상 증착 (CVD).
텅스텐 및 구리는 높은 열 전도성을 가지며, 이는 타겟 스퍼터링 동안 균일한 필름 증착 및 열 발산을 돕는다.
No.26 Baotai Road, Weibin District, Baoji City, Shaanxi, China.
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